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특허등록
번호 산업재산권 명칭 출원/등록국가 연구책임자 단계
203 (공동)고분자층/전도층을 포함하는 적층제, 그를 포함하는 고민감성 및 선형 민감성을 갖는 압력 센서, 및 그의 제조 방법 대한민국 정윤영 3단계
3차년도
202 (공동)고분자층/전도층을 포함하는 적층제, 그를 포함하는 고민감성 및 선형 민감성을 갖는 압력 센서, 및 그의 제조 방법 대한민국 조길원 3단계
3차년도
201 용액 공정 장치 및 이를 이용한 다층 구조 소자의 제조 방법 대한민국 장원석 3단계
3차년도
200 도전 물질의 패터닝 장치 및 방법 대한민국 장원석 3단계
3차년도
199 퍼플루오르알킬 곁사슬이 도입된 신규 나프탈렌 다이이미드계 유기 반도체 화합물 및 이를 이용한 유기 전자 소자 대한민국 김윤희 3단계
3차년도
198 이온성 액체와 그래핀을 포함하는 정전용량형 압력센서 및 그의 제조방법 대한민국 이위형 3단계
3차년도
197 접착 박막 및 이를 이용한 기판의 접착방법 대한민국 임성갑 3단계
3차년도
196 (공동)커패시터형 촉각센서 및 그 제조방법 대한민국 김도환 3단계
2차년도
195 (공동)커패시터형 촉각센서 및 그 제조방법 대한민국 정희태 3단계
2차년도
194 그래핀 적층체 및 그의 제조방법 대한민국 조길원 3단계
3차년도
193 마찰전기 에너지 발생 장치 대한민국 김상우 3단계
3차년도
192 (공동)금속 나노시트가 임베딩된 전극을 포함하는 나노제너레이터 대한민국 김상우 3단계
3차년도
191 (공동)금속 나노시트가 임베딩된 전극을 포함하는 나노제너레이터 대한민국 임병권 3단계
3차년도
190 이산화티타늄 광전극 및 그의 제조 방법 대한민국 박태호 3단계
3차년도
189 라만 신호와 위상변화를 동시에 측정하는 시스템 및 그 방법 대한민국 정현식 3단계
3차년도
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