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제목 iCVD 공정을 이용한 나노접착 박막 개발
작성일 2018-05-03 조회수 975
첨부 KAIST임성갑.jpg
내용


- 개시제를 이용한 화학기상증착 공정을 통해 합성한 이온성 고분자 기반 나노 접착 박막으로 9045분 이내의 짧은 시간에 가교를 통해 100nm 수준의 얇은 두께에서 강력한 접착력을 나타냄

ACS Appl. Mater. Interfaces게재(‘17.9), 언론보도, 국내외 특허출원 완료

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